兆声波清洗

兆声波清洗

‌兆声波清洗‌是一种利用高频声波进行清洗的技术，其核心原理是通过换能器发出高能声波，使溶液分子在声波的推动下作加速运动，形成高速流体力学层连续冲击基片表面，从而去除表面附着的微粒。‌工作原理兆声波清洗的工作原理是通过换能器发出波长为兆赫级的高能声波，这些声波推动溶液分子作加速运动，最大瞬时速度可达到30cm/s。由于频率过高，不能形成超声波清洗那样的空化气泡，而是以强的声压梯度和声流作用产生的高速流体力学层连续冲击基片表面，使基片表面附着的微粒被强制除去并进入到媒液中。优点和缺点‌优点‌：‌高效无损‌：兆声波清洗不会产生强烈的空化效应，避免了在清洗过程中对清洗对象表面的损伤与污染物残留。其效率高、时间短，使用清洗剂浓度低，对环境的危害水平较低。‌精细清洗‌：能够去除基片表面上小于0.1μm的粒子，适用于需要高精度清洗的场合。‌多功能性‌：适用于大规模集成电路制造过程中硅片的清洗、硬磁盘及其读写头的清洗、光掩模、平版显示器的清洗等多种领域。‌缺点‌：‌设备成本高‌：兆声波清洗设备通常比传统超声波清洗设备更昂贵。‌技术复杂‌：需要专业的操作和维护知识。应用领域兆声波清洗技术在许多行业的特殊精密清洗中具有广阔的应用，包括：‌半导体和电子器件‌：用于大规模集成电路制造过程中硅片的清洗、硬磁盘及其读写头的清洗等。‌光学器件和医疗仪器‌：用于光掩模、平版显示器的清洗以及医疗仪器的精密清洗。‌其他领域‌：液晶、手机镜片、汽车、摩托车、五金业、机械零件、钟表、眼镜、珠宝制造业等。