详解荷兰芯片新规影响哪些DUV型号
的有关信息介绍如下：荷兰芯片新规主要影响了最先进的浸润式DUV光刻系统，特别是那些能够生产高端芯片、微处理器和存储器的设备。具体来说，受影响的主要包括：TWINSCAN NXT：2000i及后续推出的浸润式光刻系统。这些系统需要向荷兰政府申请出口许可证，以便继续出口到某些国家或地区。ASML公司已经向荷兰政府提交了这些系统的出口许可申请，并在今年内获得了必要的许可证，以确保能够履行与客户签订的合同。能生产先进制程芯片的高端DUV光刻机型号。这些高端型号的采购受到了限制，主要涉及能够生产28nm及更先进制程的芯片的光刻机。不过，2000i之前的型号暂时不受影响。这些措施的实施，主要是为了国家安全考虑，并扩展了对特定半导体制造设备的出口管制范围。虽然这可能会对芯片制造能力和良率产生一定影响，但ASML已经通过申请许可证来应对这些限制，以确保其业务连续性。
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